薄层沉积:CVD，离子注入和外延
报告强调
全球化学气相沉积(CVD)市场预计将从2014年的50亿美元增长到2019年底的近68亿美元，2014 - 2019五年的复合年增长率(CAGR)为6.3%。
报告包括
- 薄层沉积技术的全球市场概况，包括化学气相沉积(CVD)，离子注入和外延。
- 全球市场趋势分析，包括2013年的数据，2014年的估计，以及到2019年的cagr预测。
- 讨论每种技术的优点和局限性。
- 国内外技术问题。
- 分析行业的制造能力和不同地区市场的消费情况。
报告范围
本研究的范围仅限于薄层沉积市场所称的三种主要技术。对这些技术中使用的材料的应用和独特的性能也进行了研究和讨论。乐动体育-西甲2019赞助商BCC Research分析了CVD、离子注入和外延系统的主要类型，用于生产四个关键行业的产品。对需求趋势及其对每一种薄膜技术的影响，以及每个行业内的关键市场驱动力进行了评估和审查。
分析师凭证
Mayank Jain先生获得BVU College of Engineering(位于印度浦那)的电子- vlsi工程硕士学位，以及RGPV(位于印度博帕尔)的电子和电信学士学位。他在高科技行业有近8年的经验，特别是在商业分析、市场研究和半导体销售和市场营销领域。他曾与领先的市场研究、半导体产品和服务提供商合作，包括Gartner、Microsemi和Infotech Enterprises。他的兴趣包括SoC FPGA和ASIC研究领域，嵌入式系统，绿色技术，云计算，无线网络和自动化。
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- 化学气相沉积(CVD)的全球市场将从2007年的70亿美元增加到2008年底的73亿美元。到2013年，它应该达到118亿美元，复合年增长率(CAGR)为10.2%。
- 在2008年至2013年期间，离子注入部分将以10.1%的复合年增长率增长，到研究期间结束时价值44亿美元。
- 分子束外延(MBE)设备预计在2008年达到4.754亿美元。截至预测期末，该行业的年复合增长率预计为8.1%，到2013年将达到7.013亿美元。
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离子注入设备、服务及材料的市场总值在2001年估计为10.5亿元，预计在2006年上升至34.1亿元，平均年增长率为26.6%。
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相比之下，离子注入设备和材料的出货量在2001年都下降了49%，这是有史以来最大的降幅。
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MBE设备、服务和材料的市场总额在2001年估计为2.49亿美元，到2006年增加到10.5亿美元，其AAGR为33.3%。尽管经济状况不佳，2001年MBE设备和材料出货量仍有所增加。
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刺激增长的是半导体商晶圆市场。在这段时间内，硅晶圆将强劲增长，特别是由离子注入制成的绝缘体上硅薄膜晶圆。
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到2006年，离子注入和MBE的服务市场预计将与各自的设备市场一样大。
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到1999年，私人电脑光碟的全球出货量总值达34亿美元。预计到2000年底，发货量将增长12.7%，达39亿元;到2005年，发货量将以每年11.3%的平均速度增长，达67亿元。
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在一九九九年，私人资料中心存放的资料总值达4.742亿元。到2000年，预算增长13.5%，达5.382亿元;到2005年，预算年均增长11.9%，达9.439亿元。
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1999年，PVD服务的总价值为7.669亿美元。到2000年，它们的价值将增长9.4%，达到8.3890亿元;到2005年，它们的价值将以年均9.3%的速度增长，达到13亿元。
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到1999年，全球CVD设备的出货量达到37亿美元。预计到2000年底，发货量将增长12.9%，达42亿元;到2005年，发货量将以年均11.0%的速度增长，达71亿元。
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在一九九九年，海关储存的物料总值达4.508亿元。到2000年，预算将增长12.7%，达5.08亿元;到2005年，预算将以平均每年10.9%的速度增长，达8.497亿元。
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微电子工业，包括半导体，元件和平板显示器代表了CVD设备，材料和服务的最大市场。在预测期内，该行业将以约12%的AAGR增长。随着器件几何尺寸的不断缩小和水平的不断扩大，电介质和类金刚石薄膜将引领材料市场的增长。