原子层沉积和其他超薄薄膜制造流程

2016年11月 | SMC061C | BCC出版
自定义报告

报告强调

原子层沉积的全球市场和其他超薄薄膜制造过程是价值11亿美元和13亿美元在2014年和2015年,分别。这个市场预计将从15亿年的2016美元增加到2021年的近37亿美元,复合年增长率(CAGR) 2016 - 2021年的19.1%。

报告包括

  • 原子层沉积的全球市场概况和其他超薄薄膜制造流程。
  • 全球市场趋势的分析,用数据从2014年到2015年,估计2016年和预测的复合年增长率(cagr)到2021年。
  • 集中报道的材料、设备和制造技术。
  • 看看现有油田的应用对原子层沉积以及新兴的应用程序。
  • 的报道这些过程与行业领域如电子、机械、化工、能源、光学、医学、生物、牙科、医学和纳米技术。
  • 分析市场动态,特别是增长动力,限制,和机遇。
  • 行业的主要参与者的概要文件。

报告范围

这份报告提供了一个更新审查原子层沉积和其他超薄薄膜沉积技术,并确定当前和新兴应用这些技术。

乐动体育-西甲2019赞助商BCC研究对市场现状的超薄薄膜沉积设备,定义趋势和给未来五年经济增长的预测。UTFE市场分析基于以下部分:过程、应用程序和地区。此外,技术问题,包括关键事件和最新的发展过程,进行了讨论。

更具体地说,市场分析由BCC研究这份报告分为五个部分。乐动体育-西甲2019赞助商

在第一部分,介绍主题,提供了一个原子层沉积的历史回顾,包括最近发生的事件的大纲。在本节中,当前和新兴应用ALD和其他超薄薄膜制造过程也在识别和分组段(电子、光电、机械/化工、传感器、仪器仪表、能源、光学涂层,生命科学,和其他人)。

第二部分提供了超薄薄膜沉积技术的回顾。本节提供了一个修正和各种薄膜涂层过程的详细描述;现有的超薄薄膜沉积方法;和新的和新兴的制造过程。这部分包括一个自2013年以来最重要的技术发展的分析,包括最近发行或重大专利申请的例子,以及强调操作在这个领域最活跃的研究机构。

第三部分为UTFE需要全球市场分析。全球收入(销售数据在数百万美元)提出了每段(过程、应用程序和地区),与实际数据指的是2014年和2015年,和估计为2016。

分析当前UTFE收入紧随其后的是一个详细的市场增长趋势,基于行业增长、技术趋势和区域趋势。第三部分得出的结论是通过提供预计UTFE收入在每一个部分,结合预测复合年增长率(cagr)为2016年到2021年。

在第四部分的研究中,涵盖了全球产业结构,该报告提供了一个列表的主要供应商UTFE,连同他们的产品的描述。的地理分布的分析包括描述这些公司和其他关键行业参与者的评价。详细的公司资料提供的顶级球员也。

第五个也是最后一个部分包括最近发布了美国专利的分析,总结相关的专利超薄薄膜制备方法,设备和应用程序。专利分析是由地区、国家、受让人、专利分类、应用程序和过程的类型。

分析师凭证

首席研究分析师Margareth Gagliardi BCC研究先进材料,拥有超过30年的经验领域的先进材料,专业从事陶瓷配方、材料加工、新乐动体育-西甲2019赞助商产品开发。收到她的化学和陶瓷工程学位后,她曾在制造业和研发控股高级管理职位在美国和欧洲的公司生产电子、机械、化学和结构组件。

她目前的工作重点是市场情报和先进技术分析组织和研究机构在高科技产业范围内运作。

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完整的报告:原子层沉积和其他超薄薄膜制造流程 152年 2500美元 免费的
发表,2010年1月- |分析师-Margareth Gagliardi |代码,SMC061B

报告强调

  • 全球原子层沉积市场于2008年价值约3.18亿美元。这个市场下降到1.99亿年的2009美元在经济衰退的影响在世界上的许多主要经济体,它预计将增长到近9.78亿美元在2009年至2014年之间,在5年期间的CAGR为37.5%
  • 设备市场在2008年近2.31亿美元;这进一步减少到1.21亿年的2009美元,预计将在2014年达到5.79亿美元,5年36.8%的复合年增长率。
  • 材料市场在2008年是8700万美元;这进一步减少到7800万年的2009美元,预计将在2014年达到3.995亿美元,5年38.5%的复合年增长率。
发表,3月- 2006 |分析师-Margareth Gagliardi |代码,SMC061A

报告强调

  • 原子层沉积的全球全球市场从1.516亿年的2003美元增加到2005年底,估计有2.141亿美元。
  • 工艺设备销售代表这个市场最大的份额。他们的平均年增长率(AAGR)预计未来五年23.1%,导致全球退化系统到2010年销售额达4.873亿美元。
  • 原材料收入增长,由制程利用金属氧化物薄膜的沉积和其他未来快速增长的应用,如high-k栅氧化物的沉积和nitridebased屏障层,预计将增长25.6%的AAGR未来五年,到2010年达到1.303亿美元。
原子层沉积和其他超薄薄膜制造流程

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