在20世纪70年代末，漫画史蒂夫马丁，一个相对的公众意识，击中了一个钥匙的大次，“让我们变小！”

科学研究世界，特别是20世纪80年代的纳米技术出现以来，已经将马丁的信条带到了无情的尝试，以便在原子水平上操纵物质。在半导体行业中，纳米材料的发展已经引起了电子系统的组件集成到单个芯片中，例如我们看到智能手机。

随着允许制造纳米岩的技术的发展，“纳米电子学”的时代肯定地到了。对纳米电子学的兴趣来自持续的趋势，这些趋势是小型化的，其需要制造一个新一代的装置，该装置不仅较小，而且还表征了较低的功耗和更高的数据传输速度

最近，公司在化学气相沉积（CVD）技术方面开发了一种可以允许更小的芯片包装的变化。这种变体被称为Smoltek Tiger，由瑞典公司Smoltek AB设计。

用于碳纳米结构制造的化学气相沉积涉及将气态反应物或催化剂引入炉中以在通常由铜制成的金属基板上形成膜。纳米结构可以通过改变的参数（例如材料量）和引入它们时的变化参数来改造。

Smoltek通过精确地控制所得生长的位置和密度，从致密膜变化到恰好定位各个纳米结构，通过精确控制其专利保护。

使用CVD控制基材上的增长

这种Smoltek的CVD工艺精度使得产生的增长变得更高，质量更高，即技术的介绍。该公司的过程通过向CVD过程中添加两层来不同于典型的CVD过程。添加的第一层加入的控制层调节特定纳米结构的生长。

添加第二层“帮助层”，将下面的表面与在生长过程中使用的材料引起的损坏保持底层。

它们独特的CVD工艺在低于400摄氏度的温度下起作用，这允许该过程适应互补金属氧化物半导体元件和工艺。

控制层之间的相互作用

根据公司的说法纸这描述了该技术，“核心技术的第三延伸使得灵活地定制并影响生长机制，通过具有催化剂层的”谷物层分布和将其生长的晶粒层分布“。

Smoltek声称控制能够使层之间的相互作用以及生长参数和生长纳米结构的性质。

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